สร้างด้วยเทคโนโลยีกระบวนการผลิตระดับแนวหน้า
สร้างด้วยเทคโนโลยีกระบวนการขั้นสูงที่สุด ซึ่งได้รับการปรับให้เหมาะสมสำหรับ AI, HPC และระบบประมวลผลยุคใหม่ และผลิตผ่านห่วงโซ่อุปทานที่มีความยืดหยุ่นทั่วโลก
Intel 14A
ความก้าวหน้าครั้งสำคัญของยุคสมัย
- ขับเคลื่อนด้วยทรานซิสเตอร์ RibbonFET 2 Gate-all-around และการส่งกำลังไฟด้านหลัง PowerDirect เพื่อประสิทธิภาพและสมรรถนะที่ก้าวล้ำ
- มอบประสิทธิภาพที่เพิ่มขึ้น 15–20% โดยใช้พลังงานเท่าเดิม หรือลดการใช้พลังงานลง 25–35% โดยยังให้ประสิทธิภาพเท่าเดิม และปรับปรุงความหนาแน่นของชิปได้สูงสุดถึง 30% เมื่อเทียบกับ Intel 18A1
- Turbo Cells ช่วยเร่งประสิทธิภาพ CPU/GPU พร้อมทั้งช่วยให้นักออกแบบสามารถปรับแต่งค่าการแลกเปลี่ยนประสิทธิภาพด้านพลังงานระดับบล็อคได้อย่างละเอียดสำหรับการใช้งานเป้าหมาย
Intel 18A
นวัตกรรมชั้นนำของอุตสาหกรรม
- นำเสนอการผสมผสานครั้งแรกในอุตสาหกรรมระหว่างทรานซิสเตอร์ RibbonFET Gate-all-around และการจ่ายพลังงานจากด้านหลัง PowerVia
- มอบประสิทธิภาพที่สูงขึ้นสูงสุดถึง 18% ที่ระดับพลังงาน iso, ลดการใช้พลังงานลง 38% ที่ระดับประสิทธิภาพ iso และปรับปรุงความหนาแน่นของชิปได้ 30% เมื่อเทียบกับ Intel 32
- PowerVia ช่วยปรับปรุงการใช้เซลล์มาตรฐานและลดแรงดันตก IR ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการจ่ายพลังงานและประสิทธิภาพการทำงาน
- RibbonFET ช่วยให้ควบคุมไฟฟ้าสถิตได้ดีขึ้น ให้ประสิทธิภาพต่อวัตต์ที่สูงขึ้น และรองรับการทำงานที่แรงดันไฟฟ้าขั้นต่ำ (Vmin) ต่ำลง
- พร้อมสำหรับการออกแบบ ด้วยการรองรับระบบนิเวศอย่างเต็มที่และการรองรับการออกแบบ
- โหนดในตระกูล Intel 18A ยังรวมถึง Intel 18A-P ซึ่งมอบประสิทธิภาพต่อวัตต์เพิ่มขึ้นสูงสุดถึง 9% และเพิ่มประสิทธิภาพด้านพลังงาน3 และ Intel 18A-PT สำหรับการผสานรวม 3DIC ขั้นสูง
Intel 3
สุดยอดโหนด FinFET ของเรา
- การใช้ประโยชน์จาก EUV และไลบรารีที่ได้รับการปรับปรุงเพื่อกระแสขับเคลื่อนและประสิทธิภาพการเชื่อมต่อระหว่างกันที่ดียิ่งขึ้น
- มีประสิทธิภาพเพิ่มขึ้น 18% ณ ระดับการใช้พลังงานที่เท่ากัน (iso-power) และมีความหนาแน่นของชิปเพิ่มขึ้นสูงสุดถึง 8% เมื่อเทียบกับ Intel 44
- เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานประมวลผลทั่วไป โดยสร้างสมดุลระหว่างประสิทธิภาพและประสิทธิผล
- ตระกูลผลิตภัณฑ์นี้ประกอบด้วย Intel 3-E ที่มาพร้อมกับขีดความสามารถด้าน I/O และอนาล็อกที่เพิ่มขึ้น และ Intel 3-T ที่มาพร้อมกับ TSV แบบพาสทรูสำหรับการซ้อนกันที่มีความหนาแน่นสูง
- อยู่ในการผลิตปริมาณมากและมีให้ใช้งานผ่าน Design Services Node โดยเฉพาะ
โหนดกระบวนการผลิต 12nm ของ Intel และ UMC
ความร่วมมือในนวัตกรรม
- พัฒนาขึ้นร่วมกับ UMC โดยผสานรวมความเชี่ยวชาญด้าน FinFET ของ Intel เข้ากับประสบการณ์ด้านลอจิกและ RF ของ UMC
- มอบประสิทธิภาพที่สูงขึ้นถึง 10% เมื่อใช้อุปกรณ์ FinFET ที่ได้รับการปรับแต่งให้เหมาะสม และลดการใช้พลังงานลงถึง 20% โดยการลดแรงดันไฟฟ้าเมื่อเทียบกับเทคโนโลยี 14nm (14FFC) ของ UMC
- ปรับแต่งให้เหมาะสมสำหรับตลาดอุปกรณ์พกพา ไร้สาย และเครือข่าย
- นำเสนอทางเลือกของห่วงโซ่อุปทานที่หลากหลายและยืดหยุ่นซึ่งรองรับแอปพลิเคชันที่มีการเติบโตสูง
Intel 16
ข้อได้เปรียบของ FinFET พร้อมความยืดหยุ่นของ Planar
- มอบประสิทธิภาพระดับ 16nm โดยใช้มาสก์น้อยลงและกฎการออกแบบส่วนแบ็กเอนด์ที่เรียบง่ายขึ้น
- เหมาะอย่างยิ่งสำหรับอุปกรณ์จัดเก็บข้อมูล, RF, mmWave และแอปพลิเคชันสำหรับผู้บริโภค
- ปรับปรุงพฤติกรรมของช่องสัญญาณสั้นในช่วงความยาวช่องสัญญาณที่หลากหลาย
- อยู่ในการผลิตปริมาณมากที่ Fab 24 ของ Intel Foundry ในไอร์แลนด์
พันธมิตรระบบนิเวศ Intel Foundry Accelerator
เพลิดเพลินกับการสนับสนุนอย่างครบวงจรในด้านต่าง ๆ ที่สำคัญจากพาร์ทเนอร์ในระบบนิเวศ ครอบคลุมทั้ง IP, EDA, บริการออกแบบ, คลาวด์, USMAG, ห่วงโซ่มูลค่า และความร่วมมือด้านชิปเลต
ผู้นำอุตสาหกรรมไว้วางใจใน Intel Foundry
เมื่อผลิตภัณฑ์ Intel 18A ออกวางจำหน่ายในตลาดและกลุ่มผลิตภัณฑ์โหนดที่ขยายตัวมากขึ้น ลูกค้าจึงเลือก Intel Foundry เพื่อสมรรถนะและความมีประสิทธิภาพระดับผู้นำ
เราได้ประกาศแผนการจัดตั้ง Intel Foundry เป็นบริษัทย่อย เพื่อให้ลูกค้ามีความมั่นใจมากขึ้นและแยกการมีส่วนร่วมที่ชัดเจนยิ่งขึ้น
ดูเพิ่มเติมเกี่ยวกับเทคโนโลยีกระบวนการ
Intel Foundry Shuttle
โปรแกรมเวเฟอร์แบบหลายผลิตภัณฑ์สำหรับสาธารณะของเราที่ช่วยให้สามารถสร้างต้นแบบการออกแบบบนเทคโนโลยีชั้นนำของ Intel
ตลาด
ซิลิคอนโหนดขั้นสูง โซลูชันบรรจุภัณฑ์ และซัพพลายเชนที่มีความยืดหยุ่นของ Intel ช่วยส่งเสริมความเป็นผู้นำในอุตสาหกรรมสำคัญ ๆ
Intel Foundry Portal
ข้อมูลผลิตภัณฑ์และประสิทธิภาพ
อ้างอิงจากการวิเคราะห์ภายในของ Intel เมื่อเปรียบเทียบ Intel 14A กับ Intel 18A เมื่อเดือนเมษายน 2025ผลลัพธ์อาจแตกต่างออกไป
K. Fischer และคณะ, “เทคโนโลยีแพลตฟอร์ม Intel 18A ที่ประกอบด้วย RibbonFET (GAA) และ PowerVia สำหรับการประมวลผลประสิทธิภาพสูงขั้นสูง,” งานประชุมวิชาการ IEEE/JSAP เกี่ยวกับเทคโนโลยีและวงจร VLSI, มิถุนายน 2025
A. Bowonder และคณะ, “การเพิ่มประสิทธิภาพเทคโนโลยี Intel 18A-P CMOS ที่มาพร้อมกับทรานซิสเตอร์ RibbonFET (GAA) ขั้นสูงและ PowerVia สำหรับการคำนวณประสิทธิภาพสูง,” การประชุมวิชาการ IEEE/JSAP ว่าด้วยเทคโนโลยีและวงจร VLSI, มิถุนายน 2026
เทคโนโลยีแพลตฟอร์ม FinFET ขั้นสูงแบบ Intel 3 สำหรับการคำนวณผลประสิทธิภาพสูง (High Performance Computing) และแอปพลิเคชันผลิตภัณฑ์ SOC ซึ่งมาเป็นส่วนหนึ่งของ 2024 VLSI Symposium